ASML: o monopólio invisível que decide até onde chega a lei de Moore

Em 1984, a Philips tirou de casa um projeto que já não sabia como financiar: um stepper para imprimir circuitos em wafers. A joint venture a 50/50 com a ASM International começou com o PAS 2000, uma máquina que falhou comercialmente. Quatro anos depois, com a saída da ASM, a ASML tornou-se independente e cotou-se em Amesterdão e no Nasdaq; o PAS 5500, em 1991, e a arquitetura modular deram-lhe a Micron e a IBM.

A segunda vida chama-se ultravioleta extremo. A ASML começou a investigar EUV em 1997, convenceu Intel, TSMC e Samsung a financiar o desenvolvimento em 2012, comprou a Cymer para dominar a fonte de luz e tornou-se a única fornecedora dos scanners sem os quais não se fabricam chips de topo. Em 2026, com vendas a caminho dos 44–45 mil milhões de euros e uma capitalização superior a 520 mil milhões, é o exemplo mais puro de um monopólio tecnológico europeu — e, por isso, um alvo permanente da geopolítica sino-americana.

A ASML nasceu a 1 de abril de 1984, mas a tecnologia era mais velha: a Philips desenvolvia steppers desde os anos 70, primeiro com os protótipos SIRE e depois com o PAS 2000, comercializado a partir de 1978. O projeto consumia recursos que a Philips, em reestruturação, não queria continuar a gastar; a saída foi uma joint venture com a ASM International de Arthur del Prado. O PAS 2000 inicial, movido a pressão de óleo, revelou-se um fracasso; foi o PAS 2500, entregue em 1986 com lentes da Carl Zeiss e desenho modular, que deu à empresa o primeiro produto competitivo.

A independência chegou em 1988, quando a ASM se retirou e a Philips manteve a empresa viva. O PAS 5500 foi o salto: menos preciso do que os Nikon da época, mas reparável em fábrica e com menor tempo de paragem, argumento que convenceu a IBM a comprar europeu. A partir daí, a ASML apostou em duas frentes — a arquitetura TWINSCAN de dupla mesa e, em 1997, o EUV. Em 2002 já liderava o mercado.

O EUV não é uma evolução do DUV: é outra física. Para imprimir traços de poucos nanómetros, a máquina gera plasma de estanho, produz luz de 13,5 nanómetros e projeta-a através de espelhos multicamada em vácuo — porque nenhuma lente transmite essa radiação. O custo quase matou o projeto: em 2012, a Intel injetou 4,1 mil milhões de dólares por 15% do capital, e TSMC e Samsung seguiram o exemplo, num programa que colocou 23% da empresa nas mãos dos três maiores clientes. No mesmo ano, a ASML comprou a Cymer por cerca de 2,5 mil milhões.

O resultado é uma posição que nenhum concorrente replicou: cerca de 90% do mercado global de litografia e o monopólio do EUV em produção de volume. A geração seguinte, High-NA, aumenta a abertura numérica de 0,33 para 0,55 e custa cerca de 350 milhões de euros por sistema; em setembro de 2026 havia dez destes sistemas a funcionar em quatro clientes. O cerco fecha-se com a Carl Zeiss SMT, de que a ASML detém 24,9%: sem os seus espelhos não há EUV — nem alternativa credível.

Os números de 2025 explicam o fosso: 32,7 mil milhões de euros de vendas, 9,6 mil milhões de lucro líquido e uma margem bruta de 52,8%. No quarto trimestre, as encomendas bateram o recorde de 13,2 mil milhões, 7,4 dos quais EUV, e o backlog terminou o ano em 38,8 mil milhões. Para 2026, a ASML começou por prever 34–39 mil milhões, subiu para 43–45 em julho e fixou a guidance em 44–45 em outubro, com margem bruta de cerca de 56%. O terceiro trimestre trouxe 11,7 mil milhões de vendas, 57,5% de margem e 5,0 mil milhões de lucro — o melhor de sempre.

A China é a variável incómoda. Representou 29% das vendas em 2025, abaixo dos 36% de 2024, e 23% das vendas de sistemas no terceiro trimestre de 2026. Desde outubro de 2022, os controlos norte-americanos limitam equipamento avançado; desde setembro de 2023, a Haia exige licenças para DUV avançado, e em maio de 2026 o governo holandês opôs-se publicamente a um projeto de lei americano que apertaria ainda mais o cerco.